7月16日，由浙江光电子研究院、浙中科技大市场主办的半导体技术研讨会暨半导体材料工艺与设备院企交流活动在我院举行。金华市半导体领域企业代表，中国科学技术大学国家同步辐射实验室专家代表，浙中科技大市场分管负责人，我院院长助理沈建国及相关科研骨干参会。
参会人员首先参观了我院的展厅及超高真空互联实验室，详细了解半导体材料制备核心设备的技术特性及研发全流程关键节点。
中国科学技术大学国家同步辐射实验室专家代表孙治湖阐释了同步辐射光源对产业创新的驱动价值，介绍了其在半导体领域的核心优势与产业应用。作为前沿科研工具，同步辐射光源能精准解析半导体材料微观结构与性能关联，为破解薄膜制备、器件稳定性等产业化瓶颈提供全流程技术支撑，有力推动产业技术升级与创新突破。
金华线站技术负责人焦学琛具体介绍了金华线站对企业的“两大赋能”意义，既能助力企业优化生产工艺、提升产品良率，降低研发试错成本与量产损耗以直接创造经济效益；又能聚焦薄膜制备均匀性、器件稳定性等生产难题，提供从技术诊断到解决方案的全流程支撑。
我院院长助理沈建国表示，研究院始终以“科创赋能产业”为核心，聚焦半导体材料工艺与设备关键技术攻关，将实验室技术优势转化为产业竞争力。
与会各方紧扣半导体产业技术攻坚方向与创新发展需求深入研讨，在技术突破、资源开放、成果转化等关键维度达成共识。
本次活动成功构建了半导体领域“科研资源—产业需求—政策支撑”的高效对接，为区域协同创新按下“加速键”。下一步，研究院将深化产学研协同，聚焦半导体材料工艺优化、关键设备研发等核心领域，常态化开展技术对接与联合攻关，助力金华半导体产业集群加速成型，为区域经济高质量发展构筑坚实的“芯”支撑。
